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2021年技術(shù)攻關(guān)面上項目(裝備處)-重2021156 多模微波等離子體沉積設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)
發(fā)布時間:2020-09-27內(nèi)容編輯:宇辰管理
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一、領(lǐng)域: 八、先進制造與自動化--(三)高性能、智能化儀器儀表
二、主要研發(fā)內(nèi)容
(一)大功率微波傳輸通道及微波諧振腔模擬建模;
(二)大功率微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設(shè)備的微波系統(tǒng)設(shè)計及實現(xiàn);
(三)大功率MPCVD設(shè)備的散熱系統(tǒng)設(shè)計及實現(xiàn);
(四)大面積多晶金剛石膜沉積工藝研發(fā)。
三、項目考核指標(項目執(zhí)行期內(nèi))
(一)經(jīng)濟指標:實現(xiàn)銷售收入≥1000萬元。
(二)學術(shù)指標:申請專利≥2件,其中發(fā)明專利≥1件。
(三)技術(shù)指標:
1. 微波源頻率: MHz,功率≥ kW,設(shè)備連續(xù)無故障運行時間≥ 天;
2. 制備自支撐金剛石厚膜,最大樣品尺寸≥ 英寸,膜厚≥ mm;
3. 制備大尺寸光學級金剛石窗口,最大樣品尺寸≥ 英寸,在500cm-1~4000cm-1紅外波段范圍內(nèi)透過率≥ %。
四、項目實施期限: 2年
五、資助金額: 不超過200萬元
受理時間:2020年9月27日-2020年10月26日(截止24:00)。
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