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深圳市發(fā)展和改革委員會(huì)
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深圳市戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展扶持計(jì)劃-集成電路設(shè)計(jì)流片扶持計(jì)劃
發(fā)布時(shí)間:2020-05-13內(nèi)容編輯:宇辰管理
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(一)扶持方式及資助金額
事后資助。對(duì)于使用多項(xiàng)目晶圓進(jìn)行研發(fā)的設(shè)計(jì)企業(yè),給予多項(xiàng)目晶圓直接流片費(fèi)用最高70%、年度總額不超過300萬元的資助。對(duì)于首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片的企業(yè),給予流片費(fèi)用最高50%、年度總額不超過500萬元的資助。
(二)申報(bào)條件
1.項(xiàng)目申報(bào)單位是在深圳市(含深汕特別合作區(qū))注冊(cè)、具備獨(dú)立法人資格的集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)。
2.項(xiàng)目申報(bào)單位上年度營業(yè)收入總額不低于5000萬元或研發(fā)投入不低于1000萬元。
3.上年度集成電路設(shè)計(jì)銷售(營業(yè))收入占企業(yè)收入總額的比例不低于60%;
4.具有與集成電路設(shè)計(jì)相適應(yīng)的軟硬件設(shè)施等開發(fā)環(huán)境(如EDA工具、服務(wù)器或工作站等);
5.擁有核心關(guān)鍵技術(shù),申請(qǐng)項(xiàng)目須擁有產(chǎn)品的布圖登記證書或與之相關(guān)的授權(quán)專利。
6.申請(qǐng)項(xiàng)目的流片費(fèi)用與其他財(cái)政資金扶持項(xiàng)目不得享受重復(fù)資助。
(三)申報(bào)材料
項(xiàng)目資金申請(qǐng)報(bào)告(需編輯目錄,標(biāo)注頁碼)
1.項(xiàng)目摘要(4000字以內(nèi))
項(xiàng)目名稱、法人概況、項(xiàng)目背景、技術(shù)基礎(chǔ)、總支出及構(gòu)成明細(xì)、申請(qǐng)政府補(bǔ)助資金用途等。
2.項(xiàng)目背景和必要性
國內(nèi)外現(xiàn)狀和技術(shù)發(fā)展趨勢,對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的作用與影響,產(chǎn)業(yè)關(guān)聯(lián)度分析,市場分析。
3.項(xiàng)目單位的基本情況和財(cái)務(wù)狀況
所有制性質(zhì)、主營業(yè)務(wù)、近三年來的銷售收入、利潤、稅金、固定資產(chǎn)、資產(chǎn)負(fù)債率、銀行信用等級(jí)、項(xiàng)目負(fù)責(zé)人基本情況及主要股東的概況,已經(jīng)擁有的專業(yè)資質(zhì)情況及近年來主要成果等,成立時(shí)間不足三年的項(xiàng)目承擔(dān)單位提供單位成立以來的相關(guān)概況。
4.項(xiàng)目的主要內(nèi)容
項(xiàng)目關(guān)鍵時(shí)間節(jié)點(diǎn),流片產(chǎn)品主要功能、技術(shù)指標(biāo)或工藝特點(diǎn)、經(jīng)濟(jì)指標(biāo)、經(jīng)濟(jì)社會(huì)效益評(píng)價(jià)等。
5.流片總費(fèi)用及構(gòu)成明細(xì)費(fèi)用
流片總費(fèi)用及構(gòu)成明細(xì)費(fèi)用(包括掩膜版、流片加工費(fèi)等)。
資金申請(qǐng)報(bào)告附件(請(qǐng)按照以下順序依次排序):
(1)項(xiàng)目單位法人注冊(cè)文件、組織機(jī)構(gòu)代碼證;
(2)項(xiàng)目單位近三年財(cái)務(wù)審計(jì)報(bào)告(若項(xiàng)目單位成立時(shí)間不足三年,需提供單位成立至今的財(cái)務(wù)審計(jì)報(bào)告);
(3)上年度完稅證明;
(4)會(huì)計(jì)師事務(wù)所出具的該項(xiàng)目專項(xiàng)審計(jì)報(bào)告;上年度營業(yè)收入總額低于5000萬元的,需提供研發(fā)投入專項(xiàng)審計(jì)報(bào)告(費(fèi)用計(jì)算期最長可以追溯至申報(bào)通知發(fā)布之日起前6個(gè)月,且費(fèi)用審計(jì)周期需為連續(xù)的自然月,最長不超過12個(gè)月,報(bào)告需體現(xiàn)上年度集成電路設(shè)計(jì)銷售收入情況及占營收比重);
(5)與集成電路制造企業(yè)簽訂的工程流片合同、發(fā)票、發(fā)貨單、報(bào)關(guān)單等相關(guān)材料原件及復(fù)印件(原件驗(yàn)后退還);
(6)流片產(chǎn)品的知識(shí)產(chǎn)權(quán)證書復(fù)印件(布圖登記證書或與之相關(guān)的授權(quán)專利);
(7)芯片版圖彩印縮略圖、產(chǎn)品外觀照片;
(8)首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片的,需提交真實(shí)性承諾函;
(9)已有軟硬件設(shè)施清單及購置憑證
(10)項(xiàng)目單位自主申報(bào)以及對(duì)申報(bào)材料內(nèi)容及附屬文件真實(shí)性負(fù)責(zé)的聲明。
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